等離子清洗機的幾種頻率區(qū)別與運用

        常用的等離子體激發(fā)頻率有3種：40kHz等離子體為超聲等離子體，13.56MHz等離子體為射頻等離子體，2.45GHz等離子體為微波等離子體。不同等離子體產生的自偏置電壓是不同的。超聲等離子體的自偏置電壓在1000V左右，射頻等離子體的自偏置電壓在250V左右，而微波等離子體的自偏置電壓很低，只有幾十伏。這種等離子體的機制是不同的。
        超聲波等離子體（40KHZ）的反應是物理反應，射頻等離子體（13.56MHZ）的反應既有物理反應，也有化學反應，微波等離子體（2.45GHZ）的反應是化學反應。
        超聲波等離子清洗對被清洗表面的影響很大，所以實際半導體生產應用中多采用射頻等離子清洗和微波等離子清洗。
        超聲波等離子體用于表面去膠、毛刺拋光、材料親水等處理。典型的物理等離子體清洗工藝是在反應室中加入氬氣作為輔助處理進行等離子體清洗；氬氣本身是惰性的等離子體的氬氣不與表面反應，而是通過離子轟擊清潔表面。
        基于物理反應的等離子清洗，也稱為濺射蝕刻（SPE）或離子銑削（IM），其優(yōu)點是不發(fā)生化學反應，清洗表面不留下任何氧化物，可保持其化學純度。清洗材料方面，典型的等離子化學清洗工藝是氧等離子清洗。等離子體產生的氧自由基非常活躍，容易與碳氫化合物反應，產生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發(fā)性物質，從而去除表面污染物。
        射頻等離子清洗，通過加入不同的氣體，可以使表面反應機理中的物理化學反應發(fā)揮重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕。兩種清洗可以相互促進，離子轟擊可以對清洗表面造成破壞，削弱其化學鍵或形成原子態(tài)，容易吸附反應物，離子碰撞加熱被清洗物體，使反應更容易；
         2.45G微波等離子體目前在國內使用較少。